《表1 实验采用的烧结工艺》

《表1 实验采用的烧结工艺》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《粉体粒径及烧结工艺对ZrB_2陶瓷致密化行为与晶粒长大的影响》


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本实验采用亚微米Zr B2粉体(D50=200 nm)和微米Zr B2粉体(D50=2μm)为原料,利用热压烧结和放电等离子烧结制备Zr B2陶瓷。具体烧结工艺分别如下:(1)热压烧结:将Zr B2粉体置于石墨模具中进行真空热压烧结,升温速率15℃/min,烧结温度分别为1500℃、1800℃和1900℃,保温时间1 h,烧结压力30 MPa。(2)放电等离子烧结:将Zr B2粉体置于石墨模具中进行放电等离子烧结,升温速率100℃/min,烧结温度1900℃,保温15 min,烧结压力30 MPa。表1所示为具体的实验参数。