《表4 R&D税收激励的研发投入效应对专利产出的影响》

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《R&D税收激励、知识产权保护与企业的专利产出》

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接下来以面板计数模型分析R&D税收激励的额外研发投入对专利产出的影响。模型适用上，经过面板泊松回归（随机效应和固定效应）、负二项面板回归（随机效应和固定效应）以及hausman检验，表4中的8个模型均一致适用随机效应面板负二项回归。第1至4列是以专利申请为因变量，以K近邻匹配（k=1）（1）得到R&D税收激励的额外研发投入效应（αT T）及其与知识产权保护的交叉项（i p p×αT T）为核心解释变量，报告发生率比的回归结果。（2）发生率比是指假定其他变量不变，自变量增加1个单位，因变量是原来的多少倍。如果该系数小于1，说明该变量对因变量的影响为负。只有当该系数大于1时才具有正向影响。