《表1 Si粉和Al粉中主要杂质含量》

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《半固态处理对Al-50wt%Si合金初晶硅形貌的影响研究》

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实验以纯度为99.5%的硅粉（200目）和纯度为99%的Al粉（100～200目）为原材料（原材料中主要杂质含量如表1所示），配置30 g的成分为Al-50wt%Si的混合粉末。将配置好的混合粉末置于氧化铝坩埚内进行烧结，烧结温度为1450℃，烧结气氛为Ar-4%H2，获得Al-Si二元合金。随后以8℃/min降温至600℃保温120 min，使初晶硅析出，随炉冷却至室温获得Al-50wt%Si（Al-50Si）合金铸锭。利用红外热处理炉将铸锭再次升温至580℃进行5 min、15 min、25 min和30 min的热处理，获得不同的半固态热处理样品，升温速率20℃/s。