《表1 两种刻蚀技术对比》
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表1为两种刻蚀工艺的详细对比，工厂可以通过各自设备及工艺的状态来选择合适的多晶硅刻蚀工艺。
| 图表编号 | XD0057022100 严禁用于非法目的 |
|---|---|
| 绘制时间 | 2019.07.20 |
| 作者 | 赵圣哲、张立荣、宋磊 |
| 绘制单位 | 深圳方正微电子有限公司、深圳方正微电子有限公司、深圳方正微电子有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
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