《表1 从极化曲线中获得的电化学腐蚀参数》

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《紫铜表面掺钨类金刚石膜的制备及耐蚀性与细胞相容性研究》

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图4为紫铜和W-DLC膜两种样品在生理盐水中的动电位极化曲线。样品的自腐蚀电位φcorr和腐蚀电流密度jcorr列于表1。可见W-DLC膜的φcorr高于紫铜，说明W-DLC膜的腐蚀倾向更小[8]。另外，W-DLC的jcorr较紫铜低一个数量级。自腐蚀电流密度反映了材料的腐蚀速率，其值越小，腐蚀速率就越小[9]。因此，W-DLC膜的腐蚀速率小于紫铜。这主要归因于W-DLC膜具有较高的电阻率，以及均匀致密、缺陷较少的组织结构。对Ti6Al4V合金表面类金刚石膜的研究也表明类金刚石膜能够改善基体在Hanks溶液中的耐腐蚀性能[10]。