《表2 恒电流处理的相关实验参数Tab.2 Experiment parameters for constant current treatment》

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《黄铜晶间腐蚀机理的实验及模拟研究》

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在实验探索阶段，曾使用1倍、5倍、10倍、50倍、100倍的自腐蚀电流密度处理H70/H80黄铜片，结果发现，在100倍以下的自腐蚀电流密度处理黄铜片时，腐蚀较轻微，并未出现晶间腐蚀现象。当腐蚀电流密度提高到100倍时，在短短数小时内H70和H80黄铜都出现了晶间腐蚀现象。因此，选用100倍的自腐蚀电流密度作为恒电流处理参数进行一系列实验，如表2所示。试验时将H70/80黄铜片分别接入电解池，选择Gamry工作站的恒电流模式，将铜片作为阳极施加恒电流，外加电流设置为表2中的I，对应的电流密度为J，为了研究腐蚀时间对黄铜晶间腐蚀的影响，腐蚀时间分别选择2、4、6、8 h。