《表1 Cr2O3-Ti O2基高发射率涂层粉末配比Tab.1 Powder component ratio of Cr2O3-Ti O2 based high emissivity coating》

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《Tb_4O_7掺杂Cr_2O_3-TiO_2基高发射率涂层结构及辐射性能研究》

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将Cr2O3粉（纯度≥99.9%，1~10μm，沈阳石化微粉材料有限公司）、Ti O2粉（纯度≥99.9%，1~10μm，沈阳石化微粉材料有限公司）、Ni O粉（纯度≥99.5%，1~10μm，江苏泰禾金属工业有限公司）、Tb4O7粉（纯度≥99.0%，1~10μm，赣州立业稀土有限公司）按照表1所示配比进行混合，对应的试样标记为TB2.5、TB5.0、TB7.5，再以m原料:m乙醇=1:1加入无水乙醇，放入尼龙罐中，以Zr O2球作为球磨介质球磨24 h。然后将混合浆料取出，置于喷雾干燥设备中进行团聚造粒处理，最后将获得的团聚粉体置于马弗炉中在1600℃下烧结3 h，制得复合粉体材料。