《表1 电沉积工艺条件Tab.1 Process conditions for electrodepositon》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《超声波对电沉积多孔铜箔的影响》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

基于以上研究结论，本研究通过以0.4 mol/L Cu SO4+1.5 mol/L H2SO4的溶液为基础电解液，液温20～25℃，HCl浓度50 mmol/L，超声功率100W。工作电极为35μm的电解铜箔（光滑面沉积），阳极为镀铱钛板。具体沉积工艺条件如表1所示。