《表7 样品分析结果 (n=5) Tab.7 Analytical results of the samples (n=5)》
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《熔融制样-X射线荧光光谱法测定工业硅中总硅、二氧化硅和其他杂质组分》
按试验方法对5个工业硅样品进行分析(已知值采用湿法分析得出),每个样品制备5个样片,计算测定值的相对标准偏差(RSD),结果见表7。MSi为除二氧化硅中硅以外的硅,由于二氧化硅和MSi的结果计算涉及总硅和其他元素的测定结果,因此精密度稍差。
图表编号 | XD0037372700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.02.18 |
作者 | 徐建平、张兆雄 |
绘制单位 | 武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室、武汉钢铁有限公司质检中心 |
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