《表1 实验配方设计:CVD碳粉含量对铜基粉末冶金离合器材料性能的影响》
提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《CVD碳粉含量对铜基粉末冶金离合器材料性能的影响》
实验用的主要原材料包括:电解铜粉:10~35μm,纯度99.0%(质量分数,下同)、铁粉:20~45μm,纯度99.5%、锡粉:20~45μm,纯度99.0%、铬粉:15~25μm,纯度99.0%、二硫化钼:≤44μm、三氧化二铝:≤124μm、鳞片石墨:≤420μm、化学气相沉积(CVD)碳粉:≤20μm,碳纯度99.0%,热解炭:炭纤维=1:4。铜基粉末冶金摩擦材料的配方设计如表1所列。
图表编号 | XD0031011900 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2019.04.01 |
作者 | 王秀飞、李丙菊、张翔、易旭、王斌、谭周建 |
绘制单位 | 华南理工大学佛山研究院、中南大学粉末冶金国家重点实验室、中南大学粉末冶金国家重点实验室、中南大学粉末冶金国家重点实验室、中南大学粉末冶金国家重点实验室、中南大学粉末冶金国家重点实验室 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |