《表3 供试菌株在不同底物选择性培养基上出现氧化带的时序》

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注:表中“+”表示产生氧化带

由表3可以看出,菌株1.9和菌株2.3a可氧化底物较少,菌株周围出现氧化带时间较长;菌株2.1a、310b、2.3a、2.4d可氧化底物较多,菌株周围出现氧化带时间较快,接菌24h后菌株周围基本都已出现氧化带;菌株10a在接菌24h后,只有在以邻联甲苯胺和联苯胺为底物的培养基上出现氧化带,接菌72h后,在蒽酮为底物的培养基上出现氧化带,氧化带出现时间慢。菌株WB在接菌96h后,只有在以邻联甲苯胺为底物的培养基上菌株周围出现氧化带,在其他7种底物培养基上均无氧化带出现。菌株3.7c在8种底物培养基上接菌后,无任何氧化带出现。