《表2 铬镀层各晶面的取向度Tab.2 The orientation of chromium grains》

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《间歇电沉积粒状铬镀层的过程及其性能》

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各晶面取向度计算结果见表2.分析可得:连续电沉积和间歇电沉积下镀铬层的结晶取向差别不大，都是（110）、（200）和（211）3个晶面取向度，并未出现新的晶面.但是相比连续电沉积，间歇电沉积所得铬镀层的择优取向（110）和（200）的晶面取向度减少，（211） 晶面的取向度增大，即出现了铬（211）晶面的择优取向.