《表2 电沉积时间2 h的Cr镀层组成Tab.2 The chemical composition of Cr coatings obtained at the electroplating time
耐蚀性是评价功能性铬镀层性能是否优良的一个重要标准.将三价铬镀层置于3.5wt%Na Cl溶液中进行Tafel曲线测试,结果如图11.由Tafel曲线计算得到三价铬镀层的腐蚀电位Ecorr为-0.29 V,腐蚀电流密度jcorr为9.26×10-5A·dm-2.候峰岩等[27]采用硫酸盐三价铬体系得到的铬镀层腐蚀电位为0.015 V,腐蚀电流密度为6.46×10-4 A·dm-2.赵坤等[28]采用硫酸盐三价铬体系得到的铬镀层腐蚀电位为-0.369 V,腐蚀电流密度为3.58×10-6A·dm-2.本体系获得的三价铬厚铬镀层的腐蚀电位与腐蚀电流密度均介于这两者之间.
图表编号 | XD0015001700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.02.28 |
作者 | 闫慧、黄帅帅、杨防祖、田中群、周绍民 |
绘制单位 | 厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室、厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室、厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室、厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室、厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室 |
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