《表3 不同真空热处理温度对改性石墨烯薄膜光催化活性的影响Tab.3 Effect of different vacuum heat treatment temperature on photocat
注:(1)真空热处理2h;(2)空气热处理2h。
根据反应物浓度与速度的一级动力学关系式(ln C0/C=kt),采用线性回归分析,可得不同热处理工艺还原的改性石墨烯薄膜光降解亚甲基蓝溶液的表观反应速度常数k,结果如表3所示。由表3可知,随着真空热处理温度的升高,反应速率常数k逐渐降低,薄膜的光催化效率下降,薄膜的光催化活性也逐渐下降。空气热处理对改性石墨烯薄膜光催化活性的影响规律与真空热处理相同,但是真空热处理还原得到的改性石墨烯薄膜的反应速度常数k比空气热处理还原得到的大,光催化活性更高。
图表编号 | XD0024038700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.11.01 |
作者 | 刘家鹏、孙世清、郑艳银、顾宝珊、邹卫武 |
绘制单位 | 河北科技大学材料科学与工程学院、河北科技大学材料科学与工程学院、河北科技大学材料科学与工程学院、中国钢研科技集团有限公司先进金属材料涂镀国家工程实验室、中国钢研科技集团有限公司先进金属材料涂镀国家工程实验室、河北科技大学材料科学与工程学院 |
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