《表3 预还原催化剂Ni比表面积 (m2·g-1)》

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《焙烧温度对共沉淀法制备高温甲烷化催化剂性能的影响》

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从表3可以看出，随着焙烧温度的升高，催化剂预还原后Ni金属比表面积先增大后减小，表明只有在适宜焙烧温度下，活性组分分散度最好。从N2低温吸附结果可知，低温焙烧催化剂在预还原过程中孔易坍塌，结构不稳定，这可能造成低温焙烧后活性组分分散度低。焙烧温度太高时，易造成活性组分烧结，导致活性组分分散度低。因此，700℃焙烧时活性组分分散度最好。