《表2 OMMT(001)层间距和衍射强度》
从图1、表2中可以看出,随着OMMT和PP-g-MAH的加入,PP在2θ=1.14处的衍射峰消失,复合膜在约2θ=2.3处出现(001)晶面特征衍射峰,这表明PP成功插入了OMMT片层间,在约2θ=4.60处出现(001)晶面的二级衍射峰,其中,二级衍射峰较大,这表明OMMT片层的堆积程度减弱,PP-g-MAH分子结构能影响PP对OMMT的插层,由此可知,PP-g-MAH具有一定增容作用;当层间距增大时,分子有充分的空间使分子的排列更加有序[2],随着OMMT含量增加,(001)晶面层间距呈先增大后下降的趋势,因此,在熔融加工过程中,OMMT片层打开,PP和PP-g-MAH融入片层中,形成了插层结构,但是随OMMT含量增加,OMMT片层堆积也更加严重,表现为层间距下降和(001)衍射峰强度增加[7-8];A3和A4相比,由于在A4中加入了更多的PP-g-MAH,且在PP-g-MAH相容剂的作用下,OMMT分散更均匀,因此,增容剂与OMMT存在一个影响OMMT分散性的最佳配比,从实验中可以得出,当PP-g-MAH与OMMT的配比为1.5,OMMT含量为2%时,二者在PP中的分散性最佳。
图表编号 | XD00225709400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.10.18 |
作者 | 赵素芬、谢文彬、李新芳、柳孟良、潘斌 |
绘制单位 | 中山火炬职业技术学院包装印刷系、中山火炬职业技术学院包装印刷系、中山火炬职业技术学院包装印刷系、中山火炬职业技术学院包装印刷系、中山火炬职业技术学院包装印刷系 |
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