《表2 相位模板刻写技术的对比》

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《基于飞秒激光刻写光纤光栅的研究进展》

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相位模板动态刻写技术是对相位模板静态刻写技术的升级。由于飞秒激光器输出的光斑大小有限，如果只通过静态刻写，很难实现啁啾光纤光栅等删区长度要求比较大的光栅的制备，这也限制了飞秒激光与相位模板结合刻写的光栅的应用，相位模板动态刻写技术能够有效的解决这一问题。目前绝大多数通过相位模板动态刻写的光栅都应用于光纤激光器中，而通过静态刻写方式的光栅通常用于传感领域。表2为这两种相位模板刻写技术的对比。