《表4 新方案与原方案蚀刻效果结果对比》
与原有的蚀刻效果进行对比,新方案蚀刻速率、蚀刻均匀性、选择比有了明显提高,见表4。
图表编号 | XD00220229700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.10.20 |
作者 | 华卫群、刘维维 |
绘制单位 | 无锡中微掩模电子有限公司、无锡中微掩模电子有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
与原有的蚀刻效果进行对比,新方案蚀刻速率、蚀刻均匀性、选择比有了明显提高,见表4。
图表编号 | XD00220229700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.10.20 |
作者 | 华卫群、刘维维 |
绘制单位 | 无锡中微掩模电子有限公司、无锡中微掩模电子有限公司 |
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