《表2 两位模拟术者左腮腺颌下腺在不同防护、不同投照位的体表入射剂量率比较（μGy/h)》

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《经皮冠脉介入术中术者头颈部辐射强化防护效果研究》

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注：与第二术者无防护比较，*P<0.05；与同一术者无防护比较，△P<0.05；与同一术者单纯床旁防护比较，▲P<0.05

由表2可见，无防护时，第一术者左腮腺颌下腺在正头位、左头位、右头位和左侧位的体表入射剂量率高于第二术者，正足位、左足位、右足位、右侧位低于第二术者，差异均有统计学意义（均P<0.05）。两位术者左腮腺颌下腺在不同防护条件下的体表入射剂量率比较，差异均有统计学意义（均P<0.05），且防护越强，体表入射剂量率越低。