《表2 硅片正、背面的实验结果》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《多晶硅片单面制绒工艺的研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

从图4可以看出，2种制绒工艺均采用硝酸、氢氟酸及水的混合液作为腐蚀液，反应为各向同性腐蚀，会形成沟槽状腐蚀表面。2种制绒工艺下多晶硅片正面微观形貌腐蚀坑的密度、分布均匀性差异不大，这从表2的硅片正面绒面反射率的数值可以体现。