《表6 实验结果（6)：硅片CMP颗粒度的几个影响因素研究》

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《硅片CMP颗粒度的几个影响因素研究》


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首先清洗不用化学试剂，只用去离子水，实验结果（6）见表6。

图表编号XD00149349800    严禁用于非法目的
绘制时间2020.04.20
作者刘永进
绘制单位北京烁科精微电子装备有限公司
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