《表1 制备MXene的腐蚀方法及其条件》

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《印刷和涂布MXene油墨用于电化学储能器件》

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由于刻蚀方法决定了MXene的表面化学、晶体缺陷等诸多物理、化学、光电特性[22-24]，因此，探索MXene的刻蚀条件非常重要。表1总结了一些最具代表性的刻蚀途径，也是使用最广泛的方法。氢氟酸（HF）的水溶液由于其极好的选择性，已被能有效刻蚀MAX相。但由于HF的危险性和处理困难等因素，寻求替代思路，如原位形成HF的方案（例如Li F+HCl），吸引了人们的极大兴趣。其它较温和的刻蚀剂，例如二氟化氢铵，氟化铵，甚至高浓度的碱溶液（作为无HF选择），路易斯酸熔盐也被证明可成功制备出多层MXene晶体。值得注意的是，MAX相的不同，所需的刻蚀条件如时间，温度，酸浓度等也不尽相同。通常来讲，过渡金属的原子数或“n”越大（以Mn+1Xn表示），所需要的刻蚀时间更长，刻蚀剂浓度更高。