《表4 33wt%FHJ吸附As(Ⅴ)的Weber-Morris颗粒内扩散模型参数》

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由图8可以看出,拟合曲线呈现多线性关系,说明33wt%FHJ对As(Ⅴ)的吸附由多个吸附过程共同控制[20].拟合直线的截距可反映初始吸附和边界层的吸附速率.当截距为正值时,说明初始的吸附速率较快;当截距为负值时,可能是边界层扩散导致吸附减缓.拟合的多段直线其截距均为正值,说明As(Ⅴ)在发生内扩散前便与33wt%FHJ表面的活性位点发生快速吸附.由表4可见,随着吸附的进行,拟合直线的斜率(Kd)逐渐减小,表明吸附过程中As(Ⅴ)的内扩散速率逐渐降低.当As(Ⅴ)初始浓度一定时,随着吸附的进行溶液中As(Ⅴ)浓度降低,膜扩散成为影响速率的主要因素.此外,Weber-Morris颗粒内扩散模型拟合曲线不通过原点,说明内扩散不是33wt%FHJ吸附As(Ⅴ)唯一的决定因素,考虑可能是由膜扩散和孔扩散共同决定的[21].