《表2 近带边发射峰位和斯托克斯位移》
图4给出了Zn O纳米柱的室温光致发光测试图谱。对于使用Zn(NO3)2基础电解液制备的Zn O纳米柱,近带边发射(Near band edge emission,简称NBE)峰位于369.8 nm (3.353 e V),发射峰的半高宽为18.9 nm。样品2~5的近带边发射峰半高宽分别为26.7 nm、24.3 nm、29.2、29.4 nm,发光峰半高宽大于样品1。对样品2~5的近带边发射峰进行拟合分析,结果列于图5及表2中。由图5可见,样品2~5的近带边发射均可拟合为NBE 1、NBE 2以及NBE 3三个发射峰。样品2的NBE 1峰位于361.9 nm(3.426 e V),发射峰半高宽22.1 nm。样品2中Zn O纳米柱阵列的NBE 1比样品1蓝移了73 me V。样品3~5的NBE 1分别位于367.4 nm (3.375 e V)、365.9 nm(3.389 e V)、364.0 nm (3.406 e V),半高宽分别为19.6 nm、22.2 nm、22.9 nm。与样品1相比,样品3~5的NBE 1分别蓝移22 me V、36 me V、53 me V,电解液中Ga(NO3)3浓度提高使Zn O纳米柱的NBE 1蓝移随之增大。
图表编号 | XD00183655900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.11.25 |
作者 | 汤洋 |
绘制单位 | 国家能源集团绿色能源与建筑研究中心、北京低碳清洁能源研究院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |