《表2 近带边发射峰位和斯托克斯位移》

《表2 近带边发射峰位和斯托克斯位移》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《电沉积氧化锌纳米柱的带隙和近带边发射蓝移》


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图4给出了Zn O纳米柱的室温光致发光测试图谱。对于使用Zn(NO3)2基础电解液制备的Zn O纳米柱,近带边发射(Near band edge emission,简称NBE)峰位于369.8 nm (3.353 e V),发射峰的半高宽为18.9 nm。样品2~5的近带边发射峰半高宽分别为26.7 nm、24.3 nm、29.2、29.4 nm,发光峰半高宽大于样品1。对样品2~5的近带边发射峰进行拟合分析,结果列于图5及表2中。由图5可见,样品2~5的近带边发射均可拟合为NBE 1、NBE 2以及NBE 3三个发射峰。样品2的NBE 1峰位于361.9 nm(3.426 e V),发射峰半高宽22.1 nm。样品2中Zn O纳米柱阵列的NBE 1比样品1蓝移了73 me V。样品3~5的NBE 1分别位于367.4 nm (3.375 e V)、365.9 nm(3.389 e V)、364.0 nm (3.406 e V),半高宽分别为19.6 nm、22.2 nm、22.9 nm。与样品1相比,样品3~5的NBE 1分别蓝移22 me V、36 me V、53 me V,电解液中Ga(NO3)3浓度提高使Zn O纳米柱的NBE 1蓝移随之增大。