《表5 优化投配比下ROS产出量和氧化还原电位》

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《UV-H_2O_2高级氧化法深度处理生活污水处理厂生化池出水COD研究》

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氧化还原电位（Oxidation-Reduction Potential，ORP）是污水处理的重要技术参数，陈贵生[27]研究表明生化处理时氧化沟中ORP基本在-500～150m V。UV-H2O2处理技术需要添加高氧化性能的H2O2，光照产生大量强氧化介质ROS，因此测定处理过程中的ORP变化对生产有一定的指导意义。试验测定生化池出水ORP为200～280 m V（水温15～18℃）。当H2O2添加配比为1∶10 000时，ORP随光照时间延长而下降，氧化能力降低，氧化性在最初的5 min时最高，达256.8 m V；配比为1∶4 000时，电位为290.0 m V左右，明显高于1∶10 000配比，且在30 min的光照时间内始终维持在这个较高的电位附近（见表5），表明1∶4 000配比更有利于氧化处理。