《表4 氧化50 h后涂层与基体界面的成分分析》
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图8为高温氧化50 h后涂层与基体界面的SEM形貌,相应能谱分析结果(原子分数)如表4所示.由图8可见,经过50 h连续高温氧化后,涂层表面发生了较大变化,与高温氧化2 h时相比,涂层的总体厚度有所减薄,且Al全部扩散渗入NiAl层中.由表4可见,A区域中Ni和Al元素的原子比约为1∶1,接近NiAl金属间化合物的原子比,涂层厚度约为200μm,而在高温氧化2 h时形成的Ni2Al3层大多转变为NiAl层,且Al作为亲氧元素在氧化过程中与O发生反应并形成了致密的α-Al2O3来保护基体,同时在涂层中存在较少的O元素.此外,在基体与涂层之间形成了厚约40μm的B区域扩散层,且结合程度仍然很致密,扩散层中Ti和Al元素的原子比约为1∶3,接近TiAl3金属间化合物的原子比.在B、C区域基体中并未发现O元素.
图表编号 | XD00172090200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.05.01 |
作者 | 李德元、李斌 |
绘制单位 | 沈阳工业大学材料科学与工程学院、沈阳工业大学材料科学与工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |