《表3 霉菌腐蚀前微弧氧化膜层表面的元素分析》
图4为微弧氧化试样表面的能谱面扫描结果。由图4可以看出,试样的表面膜层成分主要由Al和O构成,且其原子百分比之比接近2/3(见表3),即表面膜层应为Al2O3膜层,这与前述的XRD结果一致,另外在能谱结果中除Al和O元素外,还检测到少量的Si、P及Cu等元素,其中Cu元素为2A12铝合金的组成元素之一,故能在能谱分析中被检测到。而Si、P等元素被发现,结合其微弧氧化工艺来看,推测是由于在电解液中存在上述元素离子,在微弧氧化过程中,除基体参与氧化反应外,电解液体系中离子也均参与了微弧氧化反应,并进入了陶瓷膜层中[16-17]。
图表编号 | XD00163257700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.05.25 |
作者 | 王晓波、杨国华、全风美、法涛、朱生发 |
绘制单位 | 中国工程物理研究院材料研究所、中国工程物理研究院材料研究所、中国工程物理研究院材料研究所、中国工程物理研究院材料研究所、中国工程物理研究院材料研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |