《表3 低温（5℃，72h）下各处理西葫芦幼苗根表面积的比较》

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《腐植酸引发对低温胁迫西葫芦种子萌发的影响》

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对于根表面积来说，由表3可见，低温下经腐植酸处理后的西葫芦幼苗的细根（0～0.25mm）和中根（0.25～0.45mm）表面积均显著高于对照CK，呈T3>T2>T1>CK趋势，对照CK根表面积仅在粗根级别（>0.45mm）有优势。由此可知，低温下腐植酸引发可以促进西葫芦幼苗细根（0～0.25mm）和中粗根（0.25～0.45mm）表面积的增加。