《表1 本文研究案例定义：非规则结构电容层析成像填补法测量的敏感场特性及重构算法改进》

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《非规则结构电容层析成像填补法测量的敏感场特性及重构算法改进》

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在填补法中，填充区的介电常数分布ε填可作为已知的边界条件来优化重构成像。为提高填补法下的成像质量，本文拟从敏感场、归一化电容值及图像重构算法三个方面对图像重构进行探究，如表1所示。另外还对填充区介电常数ε填的影响进行了分析。