《表1 因素水平表:电容层析成像系统阵列电极三维优化设计》
本文采用正交试验设计方法对传感器结构参数进行综合优化。确定的4个因素为:屏蔽层半径R3、电极高度h、电极宽度w及电极层间距l。每个因素设定了3个因子水平,所设计的因素水平表如表1所示。
图表编号 | XD00149896600 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.08.28 |
作者 | 张立峰、朱炎峰 |
绘制单位 | 华北电力大学自动化系、华北电力大学自动化系 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
本文采用正交试验设计方法对传感器结构参数进行综合优化。确定的4个因素为:屏蔽层半径R3、电极高度h、电极宽度w及电极层间距l。每个因素设定了3个因子水平,所设计的因素水平表如表1所示。
图表编号 | XD00149896600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.08.28 |
作者 | 张立峰、朱炎峰 |
绘制单位 | 华北电力大学自动化系、华北电力大学自动化系 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |