《表1 因素水平表:电容层析成像系统阵列电极三维优化设计》

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《电容层析成像系统阵列电极三维优化设计》


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本文采用正交试验设计方法对传感器结构参数进行综合优化。确定的4个因素为:屏蔽层半径R3、电极高度h、电极宽度w及电极层间距l。每个因素设定了3个因子水平,所设计的因素水平表如表1所示。