《表1 T2黄铜电极在浸泡不同时间后的还原电荷积分结果》
分别在-220和-550 m V电位下对T2黄铜电极进行恒电位还原测试。图3为浸泡24 d后T2黄铜电极的恒电位还原测试的电流-时间曲线。对电流-时间曲线进行积分,可分别得到Cu2+还原为Cu+消耗的电荷量Q1和Cu+还原为Cu单质消耗的电荷量Q2。Q1值可衡量铜垢中CuO的含量;Q2表示Cu2O与CuO的总含量,可表征铜垢的厚度,其中Cu2O的含量可用Q2-Q1衡量。在浸泡不同时间后的还原电荷积分结果详见表1。依据表1结果绘制的垢层成分柱状图如图4所示。在试验初期,T2黄铜表面主要发生化学式(1)~(4)的反应,生成Cu2O,即T2黄铜表面紫红色的铜垢。随着浸泡时间的延长,Cu2O逐步被氧化成CuO,铜垢中Cu2O含量不断减少,CuO的含量不断增加。到浸泡24 d后时,(Q2-Q1)/Q1(即Cu2O/CuO)值仅为0.23,此时铜垢的主要成分为CuO。
图表编号 | XD00158414200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.09.15 |
作者 | 李丽、查方林 |
绘制单位 | 湖南省妇幼保健院、湖南省湘电试验研究院有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |