《表2 不同水肥处理下黄瓜株高的生长动态模拟方程》

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《基于不同水肥用量优化日光温室黄瓜水肥制度》

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注：同列数据后不同小写字母表示差异显著（P<0.05）。下同

用Logistic方程模拟不同水肥处理下株高的生长动态，模拟方程如表2所示，模拟系数均超过0.98。由模拟方程可得出，黄瓜生育期120 d，9个处理渐增期均长达约40 d，此阶段为苗期，营养生长旺盛；快增期均达约60 d。实测和模拟株高变化曲线见图1、图2，在定植2个月后，各处理生长速率相继达到最高值，TR1至TR9其株高增长速率依次为4.19、4.00、3.41、4.06、3.85、3.56、4.03、4.14、3.89 cm/d。在结瓜末期，高施肥量TR7、TR8株高明显高于其他处理，其中TR7株高与其他处理差异达显著水平，其次为中施肥量的TR4和TR5，再次为低施肥量的TR1、TR2、TR3，低灌水量的TR6、TR9的株高最低，说明较高的灌水量和施肥量能够促进黄瓜茎蔓的生长。