《表1 工艺参数:塑料超宽带减反射膜及抗高温高湿特性研究》
该实验所用机器为日本光驰生产的型号为SDAR-1800-DCI镀膜机,该镀膜机配有双电子枪、射频离子源和XTC/3膜厚监控仪。抽真空至5.0×1.0-3 Pa后开始沉积,设置真空室侧壁温度为120℃,离子源ACC参数为600 V。SiO2在蒸镀过程中化学成分稳定,不需要充氧,设置Ar流量为10 sccm。Ti3O5在蒸镀过程中会分解为一高化合价和一低化合价的化合物,低化合价的氧化物会产生吸收现象,所以在蒸镀过程中充入足量的氧气。具体镀膜工艺参数如表1所示。
图表编号 | XD00156290400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.08.10 |
作者 | 张达、潘永强、刘金泽、侯宋、樊彦峥 |
绘制单位 | 西安工业大学光电工程学院、西安工业大学光电工程学院、西安工业大学光电工程学院、西安工业大学光电工程学院、西安工业大学光电工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |