《表1 样品制备时的氧气流量》

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《低损耗Al_2O_3薄膜离子束溅射法制备与性能研究》

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2M虚拟层采用双离子束溅射设备镀制，靶材采用铝靶（纯度≥99.99%）镀制，基底为2.1中制备的反射镜波堆。各样品编号及镀制时沉积时间、氧气流量如表1所示，其余工艺参数保持一致。样品完成制备后的结构组成示意图如图1所示。2M Al2O3薄膜镀制完成后，测试样品的表面均方根粗糙度和反射率。