《表2 磷化膜、氧化膜和磷化-氧化复合膜的模拟电化学阻抗谱参数》

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《电化学方法研究钢铁件磷化-氧化复合膜的耐蚀性》

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虽然采用式（1）能够计算出整个膜层的电容，但却不能分析不同因素对电容和电阻的贡献。采用ZSimpWin软件进行模拟分析时还发现用图4a模拟所得结果与实测曲线相差甚远，应当考虑更多因素的影响，因此必须准确分析膜层中可能存在的各种电容和电阻。膜层中的电容包括电子电容、吸附及化学反应产生的电容，其中吸附产生的电容随吸附量变化而变化[4]，而Warburg阻抗是最常考虑的。在尝试了多种等效电路后得到模拟结果与实测曲线最吻合的图4b，其中R1为溶液电阻，C1为表面电容，C2是膜反应电容，R2、R3为部分转化膜产生的电阻，R4为基体表面的反应电阻，Rw为Warburg阻抗，Q为膜电容。由于膜层疏松，并且一种反应不能阻止另一种反应，因此各元件是并联的。另外发现人为地将Warburg阻抗从大到小调整时，模拟所得曲线几乎不变，说明模拟结果不受Warburg阻抗的影响，由此进一步证实了扩散对该电化学过程没有影响。于是改用图4c的等效电路进行拟合，结果见图5和表2。