《表2 不同氧化条件阳极氧化膜的电化学阻抗谱参数Table 2 EIS parameters for oxide films formed by hard anodization under diff

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《3003铝合金低温硫酸硬质阳极氧化》

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从表1可知，在硫酸质量浓度为180 g/L、电流密度为2.5 A/dm2、温度为-10°C的条件下阳极氧化60 min时所得氧化膜的腐蚀电位最正（-0.563 V），腐蚀电流密度最低（8.91×10-9 A/cm2），耐蚀性最佳。从图9可以看出，封孔后氧化膜有2个时间常数，其表现为Nyquist图上有2个半圆，Bode相图上有2组波峰和波谷。阻挡层特性体现在低频区，多孔层特性体现在高频区[18-19]。根据图10对图9进行拟合的结果见表2，其中Rel是电解液电阻（由于Rel远低于膜层电阻，通常忽略不计），CPEp和Rp分别是多孔层恒相位角电容和电阻，CPEb和Rb为阻挡层恒相位角电容和电阻，n是弥散指数（表征常相位角元件与纯电容偏离的程度）。由表2可知，在硫酸质量浓度为180 g/L、电流密度为2.5 A/dm2、温度为0°C的条件下阳极氧化80 min时，阻挡层电阻最大，耐蚀性应最佳，然而氧化时间过长易导致膜层起白霜且能耗较高，结合其他性能参数以及表1的结果，最终确定阳极氧化的最佳工艺条件为:硫酸质量浓度180 g/L，温度0°C，电流密度2.5 A/dm2，时间60 min。