《表1 实验因素与水平：CrAlN抗冲蚀涂层制备及性能研究》

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《CrAlN抗冲蚀涂层制备及性能研究》

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本实验采用的基体材料分别为：P(100）单晶硅片和TC11钛合金（Ti-6Al-3.5Mo-1.8Zr），其中P(100）单晶硅片用于分析测试涂层相组成及表截面等微观结构，TC11钛合金表面磨光至粗糙度Ra<0.4μm，用于测试镀膜后硬度、厚度及抗冲蚀性能。试样在镀膜前进行超声波清洗。实验设备为国产定制的AS700DTX型自动控制十六弧源阴极电弧镀膜机（如图1）。真空室侧壁共有四列靶，每列4个靶位，共有16个弧源，Cr Al靶安装在B列，Cr靶安装在C列，A、D两列备用。靶材尺寸为D100mm×40mm，转盘速度为3r/min。样品悬挂在的第二个靶材与第三个靶材的中间位置。靶材为Cr Al靶（Cr:Al=50:50，纯度>99.9%）和Cr靶（纯度>99.9%），气体为氮气和氩气（纯度>99.999%）。在涂层沉积前用1000V负偏压进行离子轰击清洗30min，每组实验沉积时间为2h。正交试验的实验因素水平和工艺参数实验数据见表1。