《表3 正交试验膜层主要性能结果》

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《CrAlN抗冲蚀涂层制备及性能研究》

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不同工艺参数下沉积Cr Al N涂层的硬度、厚度及砂粒冲蚀后深度的数据统计见表3。由表可得，随着靶电流的增大，靶材的蒸发速率增加，更多的Cr Al离子与N离子在基材表面结合，使沉积在基材表面的粒子数量增加，涂层沉积速率增大。随着炉内气压的升高，涂层沉积速率下降。根据气体分子运动论，气体分子平均自由程与压强的关系如（1）式所示[19]，k为热力学常数，D为气体分子有效直径的平方，T为气体温度，p为真空室的工作气压。