《表3 常见部分元素的谱线干扰[6]》

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《元素线系选择对硬质合金刀具涂层与基体过渡层能谱谱线解析的影响》

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对涂层———基体界面一定范围内进行了元素线分布扫描分析，Si和W的线分布图见图5。由图5b可见，Si的线分布显示异常，理论上Si仅分布在涂层，基体上没有Si，但元素线分布结果显示，Si的分布一直延伸到基体，且比涂层中Si的计数更高，因此结果是不合理的。表3给出了常见部分元素的谱线重叠情况。由表3可见，涂层中Si的Kα特征X射线能量和基体中W的Mα特征X射线能量非常接近。因此在软件自动标识时可能造成谱峰重叠误判。在这种情况下，牛津新版软件增加了处理谱峰误判的功能:Truline，该功能可以进行相近谱峰的剥离，获得真实的线分布。使用Truline功能处理后，谱图见图5c，图中的Si分布趋势正常。由于某些元素具有重叠的能量窗口（见表2），因此有时候标准的X射线制图（Line）会给出误导性的结果。而新功能Truline（也被称为“过滤最小二乘法FLS”）会进行进一步的处理，Truline选项通过将X射线线系与每种元素的预期峰进行比较，对由X射线背景而产生的谱峰重叠和任何虚假变化进行了修正，从而消除了Si和W误标的问题。