《表2 不同切割工艺下硅晶片翘曲度》
实验共分为两组,一组为530~400μm/min变速切割,一组为480~260μm/min变速切割,其切割曲线如图1所示。表2为两组不同变速曲线下切割200 mm硅片的WARP、BOW、TTV的平均值及均方差值。
图表编号 | XD00130618700 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.02.25 |
作者 | 张贺强、李聪 |
绘制单位 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所、中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
实验共分为两组,一组为530~400μm/min变速切割,一组为480~260μm/min变速切割,其切割曲线如图1所示。表2为两组不同变速曲线下切割200 mm硅片的WARP、BOW、TTV的平均值及均方差值。
图表编号 | XD00130618700 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.02.25 |
作者 | 张贺强、李聪 |
绘制单位 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所、中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |