《表1 HIP制备Cu Cr材料的密度及氧、氮含量》

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《HIP法制备CuCr触头的真空电击穿特性》

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表1为热等静压后3种样品的密度值和气体（O、N）含量。同时还给出了按照组分加和的方法计算的理论密度值，并通过计算得到相对密度。数据表明，在120 MPa压力和900～1100℃范围内不同烧结温度下，热等静压法可获得接近完全致密的铜铬合金材料，并且其关键的氧、氮含量完全满足GB/T 26867—2011《铜铬电触头技术条件》标准的要求[11]。