《表2 花键参数：20Cr2Ni4A薄壁齿圈渗碳淬火畸变控制》

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《20Cr2Ni4A薄壁齿圈渗碳淬火畸变控制》

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齿圈（见图1）设计所用材料为20Cr2Ni4A，其主要化学成分和临界点见表1，齿圈要求整体渗碳，渗碳层深0.9～1.2mm，表面硬度≥60HRC，内花键参数见表2。从齿圈的结构分析，花键为内花键，壁薄，热处理时更容易产生畸变，畸变控制难度加大。