《表4 试样的氧化速率Table 4 Oxidation rate of samples》

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《钨阴极表面激光熔覆Ni60A合金涂层及其抗氧化性能研究》

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图6为熔覆层和钨基体在760℃氧化10 h后的表面照片。可以看出，基体氧化膜呈浅色，熔覆层氧化膜呈深色；基体的氧化膜出现粉末状脱落，而熔覆层氧化膜结构紧密。图7为熔覆层和钨基体的氧化动力学曲线。可以看出，熔覆层及基体在前1 h内，氧化速率很大，符合直线生长规律；随着加热时间的延长，基体的氧化质量增加依然呈上升趋势，但是速率较前1 h有所减缓；而熔覆层在1~7 h内氧化速率逐渐降低，当大于7 h后趋于平直。熔覆层在整个过程中有近似于抛物线的氧化速率曲线，说明熔覆层氧化形成了钝化性氧化膜，且熔覆层氧化质量增加较少，而基体的氧化速率曲线近似于直线型，说明氧化膜保护性较差。由表4可知，在760℃氧化10 h后，基体的平均氧化速率为12.506 2 g/（m2·h），熔覆层为0.851 8 g/（m2·h），熔覆层比基体的抗氧化性能提高15倍，具有优良的抗高温氧化性能。