《表1 分峰拟合处理后的M-S-H相29Si MAS NMR谱化学位移和相对含量[20]》
层状,无定形SiO2网络构成的M-S-H化学成分可变,其准确的矿物结构目前并不明确。化学位移分别在–78.3×10–6和–85.4×10–6的Q1和Q2信号(表1)表明,无定型SiO2层存在一定程度的缺陷或者部分硅氧四面体处在SiO2层边角位置。Q1和Q2位置信号随着Mg/Si比增加而增加,说明Si O2层中缺陷和/或边角位置的硅氧四面体逐渐增加。Q3硅氧四面体含量随着Mg/Si比增加先增加后降低,Mg/Si比=0.8的试样中Q3硅氧四面体含量最高,达到66%,SiO2层状结构最为完整。
图表编号 | XD00104706300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.11.01 |
作者 | 宋强、胡亚茹、王倩、张军、陈延信 |
绘制单位 | 西安建筑科技大学材料科学与工程学院、西安建筑科技大学材料科学与工程学院、西安建筑科技大学材料科学与工程学院、西安建筑科技大学材料科学与工程学院、西安建筑科技大学材料科学与工程学院 |
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