《表7 二次优化试验结果：“V”形内置式永磁同步电机磁槽设计的仿真优化》

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《“V”形内置式永磁同步电机磁槽设计的仿真优化》

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5)正交试验。在表6的水平设置下做一三水平三因素的正交仿真试验，正交表L9（33）仍然沿用表3的设计，去掉最后一列即可。试验结果如表7所示，试验分析见表8。从表8的分析可见，A3B3因素一致，C因素对脉动的影响是第一因素，对力矩的影响是第三因素，且影响不大，因此最终的优化为A3B3C2。图8是二次优化与一次优化的比较图。从优化的效果看，二次优化在继续保持较小转矩脉动的同时，平均转矩也有了较大的提高。