《等离子体热处理技术》求取 ⇩

目录1

第一章　真空技术基础知识1

一、真空的基本概念1

二、真空泵12

三、真空测量26

第二章　等离子体物理基础及等离子渗氮原理42

一、等离子体的物理概念及分类42

二、等离子体中的反应48

三、气体放电的伏安特性曲线51

四、辉光放电54

五、弧光放电62

六、高频放电67

七、离子轰击阴极表面的物理、化学效应70

八、离子渗氮原理73

九、离子渗氮的主要特点90

第三章　离子渗氮设备94

一、设备的组成、种类及技术条件94

二、电器系统96

三、真空炉体124

四、供气和抽气系统130

五、离子渗氮工艺参数的微处理机控制136

六、离子渗氮设备的维护及故障排除143

第四章　离子渗氮工艺及操作146

一、离子渗氮工艺参数的选择146

二、离子渗氮材料的选择165

三、离子渗氮工艺过程及操作180

四、常见故障及排除192

第五章　离子渗氮层的组织、性能及检验201

一、渗氮层的组织201

二、渗氮层的氮浓度213

三、渗氮层的厚度217

四、渗氮层的性能220

五、离子渗氮层的质量检验245

第六章　离子渗氮的应用253

一、挤压机螺杆259

二、缸套的离子渗氮261

三、曲轴265

四、齿轮272

五、精密丝杠285

六、镗杆和主轴289

七、深孔渗氮290

八、钛和钛合金零件294

九、工模具295

十、其它303

第七章　等离子化学热处理的其它应用306

一、低温等离子多元共渗306

二、等离子渗碳及碳氮共渗318

三、离子渗金属333

第八章　等离子体气相沉积及离子注入技术简介350

一、等离子体物理气相沉积（PVD）350

二、等离子体增强化学气相沉积（PCVD）373

三、离子束轰击技术在材料科学中的应用388