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第一章等离子热处理基础知识1

第一节真空技术基础1

一、真空的概念1

二、真空的获得与度量2

三、真空系统的结构与设计10

第二节低压气体放电21

一、气体放电的伏安特性21

二、各种形式的辉光放电和弧光放电23

三、低压气体辉光放电的物理过程29

四、各种低压气体放电等离子体41

第三节离子热处理的金属学基础44

一、金属的晶体结构与合金相结构44

二、合金相图与组成相49

三、金属晶体中的扩散58

四、金属晶体的表面与界面62

第二章离子热处理设备67

第一节 离子热处理炉分类及技术规格67

第二节离子热处理设备的电源70

一、辉光放电电源70

二、几种灭弧方法71

三、脉冲直流辉光放电电源74

四、辅助加热电源75

第三节离子热处理炉的结构76

一、炉体结构76

二、阴极输电装置77

第四节供气排气系统79

一、供气系统与混合气体的配制79

二、排气系统及炉压测定与调节84

第五节测温、控温与温度均匀性86

一、测温86

二、控温88

三、温度均匀性88

第六节 离子热处理炉的发展91

第三章离子热处理工艺94

第一节离子渗氮94

一、离子渗氮原理94

二、渗层组织结构与性能97

三、离子渗氮工艺105

四、离子渗氮的应用113

第二节离子氮碳共渗118

一、共渗层组织成分与性能118

二、离子氮碳共渗工艺参数121

三、工艺操作124

四、工艺举例124

第三节离子渗硫及含硫多元共渗125

一、离子渗硫125

二、离子硫氮共渗128

三、离子硫氮碳共渗130

四、离子氧硫氮共渗132

第四节离子渗碳133

一、离子渗碳原理136

二、离子渗碳工艺138

三、工艺举例142

第五节离子碳氮共渗144

一、离子碳氮共渗工艺146

二、工艺实例147

第六节离子渗硼148

一、气体离子渗硼148

二、膏剂法离子渗硼151

第七节离子渗金属156

一、不等电位空心阴极离子渗金属156

二、冷阴极电弧源离子渗金属163

三、膏剂法离子渗金属164

第四章离子沉积技术167

第一节硬质膜材料167

一、TiN膜169

二、TiC膜169

三、多元膜和多相、多层膜170

四、其他硬质膜171

第二节真空溅射镀172

一、二极、三极、四极溅射174

二、磁控溅射175

三、其他溅射工艺177

四、合金溅射与反应溅射178

第三节离子镀178

一、直流二极型离子镀180

二、三极和多极型离子镀181

三、活性反应、增强型活性反应离子镀182

四、射频离子镀（HCD）183

五、空心阴极离子镀183

六、多弧离子镀184

第四节等离子体化学气相沉积（PCVD）185

一、PCVD原理186

二、PCVD工艺187

三、PCVD设备189

第五节离子沉积技术工艺应用概况191

一、高速钢刀具耐磨镀层191

二、金属模具耐磨镀层191

三、固体润滑镀层192

四、耐蚀、耐热镀层192

参考文献193

附录196