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第一章微电子发展的技术基础与历史背景1

一、半导体导电理论简介1

二、半导体晶体管9

三、微电子的工艺基础——硅平面工艺与硅平面型晶体管16

四、MOS(金属——氧化物——半导体)晶体管24

五、大规模集成电路及其集成度的提高31

第二章集成度提高的核心技术—微细图形加工技术33

一、光刻技术36

二、光掩模制作技术46

三、遮蔽式复印曝光技术60

四、光学投影成象曝光技术及DSW技术64

五、高能束投影曝光技术69

六、微细刻蚀技术78

七、提高光刻分辨率及精度的新方向83

第三章微电子发展中几项重要工艺与技术问题101

一、微电子中的掺杂技术101

二、晶体生长技术在微电子中的应用114

三、表面薄膜生成技术125

四、VLSI的CAD和CAT136

五、微电子与超纯水和化学试剂141

六、微电子工艺环境的净化要求与生产自动化问题150

第四章微电子技术的工业化成就与前景154

一、通用数字与模拟集成电路154

二、计算机与系统的集成化160

三、数字信号处理与高速运算的集成化实现166

四、专用集成电路ASIC168

五、建筑在微电子技术基础上的电力电子器件及其节能省材的作用176

第五章微电子技术在线路与应用方面的新领域184

一、从二值逻辑谈到多值逻辑185

二、模糊逻辑和连续值逻辑电路及其应用188

三、微电子技术应用新领域…人工神经网络200

第六章发展我国微电子工业的探讨206

一、微电子技术的特点及其与其他学科的关系206

二、我国发展微电子中的某些问题207

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