《多晶硅及其工艺过程》求取 ⇩

目 录1

前 言1

一、半导体材料及硅1

（一） 什么是半导体1

（二） 半导体的发展过程2

（三） 硅是重要的半导体材料之一4

（四） 多晶硅与单晶硅的特点5

1． P型单晶硅与n型单晶硅7

2． 电阻率8

3． 寿命9

4．位错10

（五） 多晶硅的用途11

二、生产多晶硅的方法12

三、氢还原法生产多晶硅的工艺过程14

（一） 由石英石生产粗硅14

（二） 三氯氢硅与四氯化硅的合成15

（三） 三氯氢硅与四氯化硅的精制19

（四） 氢气净化22

1．氢气的几种主要来源23

2．氢气的纯度与分析23

3． 电解食盐水氢气的净化流程23

4．氢气的使用标准与净化效果25

5． 净化系统中各种催化剂的使用与再生26

6．设备材料及安全措施27

（五） 氢还原三氯氢硅和四氯化硅28

1． 氢还原的反应原理28

2．氢还原过程29

3． 还原设备33

4． 影响氢还原反应的因素35

5． 发热体37

（六） 尾气回改41

四、硅烷法制取多晶硅42

（一） 硅化镁的制备44

（二） 硅烷气体的产生44

（三） 硅烷气体的纯化45

（四） 硅烷气体的热分解45