《表3 各组含氟颗粒双键残留量》

《表3 各组含氟颗粒双键残留量》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《超临界二氧化碳光聚合制备可交联含氟聚合物颗粒及应用》


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将用低聚物H、I、J、K和D所制备的含氟颗粒命名为F0、F1、F3、F5和F7,其中数字代表各组颗粒的相对含氟单体投料量,可以看出,所有聚合物颗粒均有双键残留(表3),其双键残留量在30%左右,其中F5最高达33.5%,F3最低为28.1%,5种含氟聚合物颗粒中双键残留量差距不大。